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布局先進刻蝕工藝，XPJ光學推出全新AR全彩光波導顯示模組
發布人 ：Goertek
發表時間 ：2025-02-05
來源 ：Goertek
Star G-E1模組采用高折射率材料和表面浮雕刻蝕光柵工藝 ，具備高均勻性 、高亮度、低雜光等特性，即使在亮光環境下也能保持清晰舒適的顯示效果。這一工藝突破了傳統納米壓印技術在高折射率材料應用上的瓶頸，提供更廣泛的折射率選擇 ，同時具備更強的耐紫外線性能。通過優化光柵材料和結構 ，Star G-E1可實現5000尼特的峰值亮度 。其亮度均勻性超過45%，色差小于0.02，對比同類技術方案分別提升約50%和100% ，有效減少了圖像顏色偏差 ，提升色彩表現 ，使眼鏡呈現的畫面色彩絢麗且清晰無雜質。另外，Star G-E1采用單層光波導鏡片，厚度僅0.7毫米 ，并采用行業領先的Micro-LED顯示方案 ，光機體積小于0.5立方厘米 ，在輕薄小巧的同時擁有卓越的光學顯示效果。
隨著AI+AR眼鏡市場的持續擴張 ，XPJ光學將繼續致力于光學顯示技術的創新與發展 ，助力AR眼鏡產品更加輕盈 ，實現細膩 、真實自然的視覺體驗。